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膜厚測試儀主要用于測量薄膜或涂層材料的厚度。根據(jù)工作原理的不同，可以分為幾種類型，常見的有電渦流法、磁性法、X射線熒光法等。這些測試方法依賴于不同的物理原理來進行膜層厚度的測量。電渦流法通常用于非鐵金屬表面，而磁性法則專門應(yīng)用于鐵磁性材料的膜層測量。無論是哪種類型的膜厚測試儀，都需要一些關(guān)鍵的耗材和附件來保證測量的精度和儀器的長期穩(wěn)定運行。下面將詳細(xì)介紹常見的耗材和附件。主要耗材：1.探頭與傳感器探頭和傳感器是直接與待測物體表面接觸的核心部件。探頭根據(jù)不同的測量方式，通常分為...

教學(xué)橢偏儀作為一種重要的光學(xué)測量工具，廣泛應(yīng)用于研究、材料分析以及工業(yè)測試領(lǐng)域。在教學(xué)中，不僅能幫助學(xué)生直觀理解光學(xué)原理，還能加深學(xué)生對光學(xué)薄膜、表面特性等物理現(xiàn)象的認(rèn)識。針對教學(xué)需求設(shè)計的橢偏儀，通常具備一定的特殊設(shè)計特點，旨在簡化操作、提高實用性和適應(yīng)性，幫助學(xué)生掌握科學(xué)實驗方法與數(shù)據(jù)分析技能。教學(xué)橢偏儀的設(shè)計不同于研究型和工業(yè)型橢偏儀，通常更注重易用性和教育功能。其設(shè)計理念主要體現(xiàn)在以下幾個方面：1.簡單易操作需要盡量簡化操作流程，減少過多復(fù)雜的設(shè)置，使學(xué)生能夠在較短的...

隨著半導(dǎo)體技術(shù)的快速發(fā)展，集成電路（IC）的制造工藝變得越來越精密，尤其是在薄膜沉積和刻蝕等工藝中，厚度控制顯得尤為重要。紅外干涉測厚儀作為一種高精度的非接觸式測量工具，在半導(dǎo)體制造過程中得到了廣泛應(yīng)用。其原理基于紅外干涉現(xiàn)象，通過反射光波與薄膜表面之間的相位差來實現(xiàn)對薄膜厚度的測量。以下將分析紅外干涉測厚儀在半導(dǎo)體制造中的應(yīng)用及優(yōu)勢。1、高精度厚度測量在半導(dǎo)體制造中，薄膜的厚度對器件的性能具有直接影響。例如，在光刻、化學(xué)氣相沉積（CVD）、原子層沉積（ALD）等過程中，薄膜...

穆勒矩陣光譜橢偏儀作為一種精密光學(xué)測量儀器，在科學(xué)研究和工業(yè)生產(chǎn)中扮演著重要角色。它用于分析光的偏振狀態(tài)及其與物質(zhì)相互作用的性質(zhì)，對半導(dǎo)體、液晶、薄膜材料等的厚度、折射率、吸收系數(shù)等參數(shù)有著精確的測量能力。然而，為了確保其長期穩(wěn)定運行和高精度測量，全面的維護策略是不可少的。本文將從定期清潔、校準(zhǔn)調(diào)整、光源與光纖檢查、軟件與系統(tǒng)更新、安全操作與規(guī)范使用等方面，詳細(xì)介紹穆勒矩陣光譜橢偏儀的全面維護策略。一、定期清潔定期清潔是確保光譜橢偏儀測量精度的基礎(chǔ)。應(yīng)使用軟布輕輕擦拭儀器的外...

頤光科技為您精選了多款光譜橢偏儀、反射膜厚儀自研產(chǎn)品。光譜橢偏儀ME-L穆勒矩陣橢偏儀ME-L是一款全自動高精度穆勒矩陣光譜橢偏儀，擁有行業(yè)前沿的光路調(diào)制技術(shù)，采用半導(dǎo)體制冷式探測器，具有超高靈敏度和極快的信號采集速度，同時也包括消色差補償器、雙旋轉(zhuǎn)補償器同步控制、穆勒矩陣數(shù)據(jù)分析等。ME-Mapping光譜橢偏儀ME-Mapping光譜橢偏儀可以滿足大尺寸晶圓的多點自動化掃描測量需求，自定義繪制測量路徑，支持實時顯示膜厚分布以及數(shù)據(jù)匯總。設(shè)備采用雙旋轉(zhuǎn)補償器調(diào)制技術(shù)，直接測...

橢偏儀在AR衍射光波導(dǎo)行業(yè)中的應(yīng)用AR衍射光波導(dǎo)是什么？目前，市面上較成熟的AR光學(xué)顯示方案主要有棱鏡方案、Birdbath方案、自由曲面方案和光波導(dǎo)方案等。各方案都有不同維度上的側(cè)重，但真正滿足AR產(chǎn)品需求的光學(xué)方案其實并不多。AR光學(xué)顯示方案特點缺點棱鏡方案可實現(xiàn)全彩顯示，技術(shù)成熟，價格便宜FOV不夠大，AR體驗感不強，無法做成眼鏡形態(tài)自由曲面方案成像色彩飽和、視場角大、功耗較低，體積適中比普通眼鏡更厚、重，外界透光率較低、圖像容易畸變Birdbath方案結(jié)構(gòu)簡單、門檻低...